Molecular Beam Epitaxy a Liquid Nitrogen Circulation System an der Semiconductor a Chip Industrie

Brief of Molecular Beam Epitaxy (MBE)

D'Technologie vun der Molecular Beam Epitaxy (MBE) gouf an den 1950er Joren entwéckelt fir Hallefleit-Dënnfilmmaterialien mat Vakuumverdampungstechnologie ze preparéieren. Mat der Entwécklung vun ultra-héich Vakuum Technologie ass d'Applikatioun vun Technologie op d'Beräich vun der Halbleiterwëssenschaft erweidert ginn.

D'Motivatioun vun der Fuerschung vun Halbleitermaterialien ass d'Nofro fir nei Geräter, déi d'Performance vum System verbesseren. Am Tour kann nei Material Technologie nei Ausrüstung an nei Technologie produzéieren. Molecular beam epitaxy (MBE) ass eng héich Vakuum Technologie fir epitaxial Schicht (normalerweis Hallefleit) Wuesstem. Et benotzt den Wärmestrahl vu Quellatomen oder Molekülen déi eenzel Kristallsubstrat beaflossen. Déi ultra-héich Vakuumeigenschaften vum Prozess erlaben in-situ Metalliséierung a Wuesstum vun Isoléiermaterialien op nei erwuessene Halbleiterflächen, wat zu Pollutiounsfräie Schnëttplazen resultéiert.

Neiegkeeten bg (4)
Neiegkeeten bg (3)

MBE Technologie

D'molekulare Strahlepitaxie gouf an engem héije Vakuum oder ultra-héich Vakuum (1 x 10) duerchgefouert-8Pa) Ëmfeld. De wichtegsten Aspekt vun der molekulare Strahlepitaxie ass seng niddereg Oflagerungsquote, déi normalerweis de Film erlaabt epitaxial mat enger Rate vu manner wéi 3000 nm pro Stonn ze wuessen. Sou eng niddreg Oflagerungsquote erfuerdert en héich genuch Vakuum fir deeselwechten Niveau vun der Propretéit z'erreechen wéi aner Oflagerungsmethoden.

Fir den ultra-héich Vakuum uewen beschriwwen ze treffen, huet de MBE Apparat (Knudsen Zell) eng Ofkillschicht, an d'ultra-héich Vakuumëmfeld vun der Wuesstumskammer muss mat engem flëssege Stickstoffzirkulatiounssystem erhale ginn. Flësseg Stickstoff killt d'intern Temperatur vum Apparat op 77 Kelvin (-196 °C). Déi niddreg Temperaturëmfeld kann den Inhalt vu Gëftstoffer am Vakuum weider reduzéieren a bessere Konditioune fir d'Oflagerung vun dënnen Filmer ubidden. Dofir ass en dedizéierten flëssege Stickstoffkühlungszirkulatiounssystem erfuerderlech fir d'MBE Ausrüstung fir eng kontinuéierlech a stänneg Versuergung vu -196 °C flëssege Stickstoff ze bidden.

Flësseg Nitrogen Cooling Circulation System

Vakuum flëssege Stickstoff Killer Circulatioun System enthält haaptsächlech,

● cryogenic Tank

● Haapt- a Branche Vakuum jacketed Päif / Vakuum jacketed Schlauch

● MBE speziell Phase separator a Vakuum jacketed Auspuff Päif

● verschidde Vakuum jacketed Ventile

● Gas-flësseg Barrière

● Vakuum jacketed Filter

● dynamesch Vakuum Pompel System

● Precooling an purge reheating System

HL Cryogenic Equipment Company huet d'Nofro vum MBE flëssege Stickstoffkühlsystem gemierkt, organiséiert technesche Réckgrat fir erfollegräich e spezielle MBE flëssege Stickstoffkühlsystem fir MBE Technologie an e komplette Set vu Vakuumisolatioun z'entwéckelen.edPiping System, deen a ville Entreprisen, Universitéiten a Fuerschungsinstituter benotzt gouf.

Neiegkeeten bg (1)
Neiegkeeten bg (2)

HL Cryogenic Equipment

HL Cryogenic Equipment déi am 1992 gegrënnt gouf ass eng Mark verbonne mat der Chengdu Holy Cryogenic Equipment Company a China. HL Cryogenic Equipment ass engagéiert fir den Design an d'Fabrikatioun vum High Vacuum Isolated Cryogenic Piping System a verbonne Supportausrüstung.

Fir méi Informatiounen, besicht weg déi offiziell Websäitwww.hlcryo.comoder per E-Mail aninfo@cdholy.com.


Post Zäit: Mee-06-2021

Verloossen Äre Message