Kuerz Beschreiwung vun der Molekularstrahlepitaxie (MBE)
D'Technologie vun der Molecular Beam Epitaxy (MBE) gouf an den 1950er Joren entwéckelt fir Hallefleeder-Dënnschichtmaterialien mat Hëllef vun der Vakuumverdampfungstechnologie ze preparéieren. Mat der Entwécklung vun der Ultrahochvakuumtechnologie gouf d'Uwendung vun der Technologie op d'Gebitt vun der Hallefleederwëssenschaft erweidert.
D'Motivatioun vun der Fuerschung iwwer Hallefleedermaterialien ass d'Nofro no neien Apparater, déi d'Leeschtung vum System verbessere kënnen. Nei Materialtechnologie kann dann nei Ausrüstung an nei Technologie produzéieren. Molekularstrahl-Epitaxie (MBE) ass eng Héichvakuumtechnologie fir d'Wuesstum vun epitaktischen Schichten (normalerweis Hallefleeder). Si benotzt den Hëtzestrahl vu Quellatome oder -moleküle, déi op en Eenkristallsubstrat treffen. Déi ultrahéich Vakuumcharakteristike vum Prozess erlaben d'In-situ Metalliséierung an d'Wuesstum vun Isolatiounsmaterialien op nei gewuessene Hallefleederoberflächen, wat zu verschmotzungsfräien Grenzflächen féiert.
MBE Technologie
D'Epitaxie vum molekulare Strahl gouf an engem Héichvakuum oder Ultrahéichvakuum (1 x 10-8Pa) Ëmwelt. De wichtegsten Aspekt vun der molekularer Stralepitaxie ass seng niddreg Oflagerungsquote, déi et normalerweis erlaabt, datt de Film epitaktesch mat enger Geschwindegkeet vu manner wéi 3000 nm pro Stonn wuessen kann. Sou eng niddreg Oflagerungsquote erfuerdert e genuch héije Vakuum, fir datselwecht Niveau vun der Rengheet wéi aner Oflagerungsmethoden z'erreechen.
Fir dat uewe beschriwwent ultrahéicht Vakuum z'erfëllen, huet den MBE-Apparat (Knudsen-Zell) eng Killschicht, an d'ultrahéicht Vakuumëmfeld vun der Wuesskammer muss mat engem Zirkulatiounssystem mat flëssegem Stéckstoff erhale bleiwen. Flëssege Stéckstoff killt d'intern Temperatur vum Apparat op 77 Kelvin (−196 °C) of. Déi niddreg Temperaturëmfeld kann den Unhalt vun Ongereinheeten am Vakuum weider reduzéieren a besser Konditioune fir d'Oflagerung vun dënne Schichten ubidden. Dofir ass e speziellen Zirkulatiounssystem mat flëssegem Stéckstoff fir d'MBE-Ausrüstung noutwendeg, fir eng kontinuéierlech a stänneg Versuergung mat -196 °C flëssegem Stéckstoff ze garantéieren.
Flëssege Stéckstoff Killzirkulatiounssystem
Vakuum flëssege Stéckstoff-Kühlzirkulatiounssystem enthält haaptsächlech,
● kryogenen Tank
● Haapt- a Branchrohr mat Vakuummantel / Vakuummantelschlauch
● MBE Spezialphasenabscheider a Vakuummantel-Auspuffrohr
● verschidde Vakuummantelventile
● Gas-Flëssegkeetsbarriär
● Vakuummantelfilter
● dynamescht Vakuumpompelsystem
● Virkillung an Erhëtzungssystem
D'HL Cryogenic Equipment Company huet d'Nofro fir e MBE-Kühlsystem mat flëssegem Stéckstoff gemierkt, huet sech den technesche Réckgrat organiséiert fir e speziellt MBE-Kühlsystem mat flëssegem Stéckstoff fir d'MBE-Technologie erfollegräich z'entwéckelen, souwéi e komplette Set Vakuumisolatiounsmaterial.edPäifsystem, dat a ville Betriber, Universitéiten a Fuerschungsinstituter benotzt gëtt.
HL Kryogen Ausrüstung
HL Cryogenic Equipment, gegrënnt am Joer 1992, ass eng Mark, déi vun der Chengdu Holy Cryogenic Equipment Company a China affiliéiert ass. HL Cryogenic Equipment engagéiert sech fir den Design a Fabrikatioun vun héichvakuumisoléierte kryogenen Leitungssystemer a verwandte Supportausrüstung.
Fir méi Informatiounen, besicht w.e.g. déi offiziell Websäitwww.hlcryo.com, oder per E-Mail uninfo@cdholy.com.
Zäitpunkt vun der Verëffentlechung: 06. Mee 2021
